铬蚀刻液 半导体材料 低酸好操作蚀刻速度快
  • 铬蚀刻液 半导体材料 低酸好操作蚀刻速度快
  • 铬蚀刻液 半导体材料 低酸好操作蚀刻速度快
  • 铬蚀刻液 半导体材料 低酸好操作蚀刻速度快

产品描述

Fe2032-5% Ti020.5-1% AI20310-15% Ca02-5% K202-5%
批号
新
用途范围
各种金属的腐蚀溶液
售卖地区
全国
服务
服务
产品性状
液体
是否厂家
是
用途
可快速蚀刻铜及铜合金。蚀刻线条均匀、不烧板、不堵板、操作简单、蚀刻速度快。蚀刻后的板面平整而光亮
存储方式
低温
数量
999
资质
齐全

http://sj2018315.b2b168.com
产品推荐

Development, design, production and sales in one of the manufacturing enterprises

您是第68035位访客

版权所有 ©2024 八方资源网 粤ICP备10089450号-8 厦门良厦贸易有限公司 保留所有权利.

技术支持： 八方资源网 八方供应信息 投诉举报 网站地图