su-8 2000系列半导体光刻胶耐强碱以及紫外线的照射
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产品描述

Fe2032-5% Ti020.5-1% AI20310-15% Ca02-5% K202-5%
是否支持加工定制
材质
液体
发货周期
质量过硬
优惠
厂家
功能
耐高温,紫外负性剥离光刻胶
特点
具有高深宽比,光刻后可以达到非常好的陡直度,基本垂 直于衬底表面。
产品等级
管理体系
成熟
公司
实力雄厚

http://sj2018315.b2b168.com
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